吴健雄纪念馆建筑设计方案

方案特点:
一、简洁明了的形体，强调与外部空间环境的良好关系;
二、地面层采用部分架空，并将吴健雄的生平介绍与雕像置于部分室内，部分室外，使室内外空间流通;
三、南、北面采用大片玻璃与顶窗构成的“光廊”，使内部主展区具有良好的自然采光与造型特征;
四、将交通、服务与主展区加以清晰的界定。
各层功能分配:
地下层:报告厅、设备用房与库房;
一层:室内外展示、接待室、服务;
二层:获奖证书及日常用品陈列;
三层:书画收藏陈列;
四层:临时展厅。总建筑面积:2500M2。